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Areas of application 適用領(lǐng)域

? 用水處理半導(dǎo)體及面板制成氣體

? 水溶性氣體(HCl, HF, NH3 等)

characteristic 特點(diǎn)

?使用場(chǎng)景：半導(dǎo)體廠中ETCH端、廠務(wù)端特氣房，EPI、MOCVD處理易溶于水氣體為主

?處理能力：常態(tài)為600-1000slm可加藥處理

?缽米產(chǎn)品特點(diǎn)：通過(guò)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，處理一些水溶性較強(qiáng)的氣體，或以水為介質(zhì)，混合堿性溶劑處理酸性氣體，使用成本較低

Benefits 優(yōu)勢(shì)

? pH控制和延遲時(shí)間可調(diào)

? 電控功能（電，NaOH）氣體流量低時(shí)粉末可調(diào)節(jié)

? 易于維護(hù) （反應(yīng)器和濕室清潔：冷卻后30分鐘內(nèi)）

? 自動(dòng)旁路備用系統(tǒng)可最大程度地減少主要工具的停機(jī)時(shí)間

? 快速的冷卻效果

? 所有的零件可以承受高壓力(閥件、管路等）